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采用RIE沉积法研制微纳工艺中的防粘连层

摘要

摩擦和粘附问题已经成为影响微机电系统(MEMS)工艺性能和可靠性的主要因素.本文针对MEMS/NEMS中微构件表面改性问题,采用反应离子刻蚀(RIE)在硅片表面沉积氟化物薄膜,以达到降低硅片的表面能,减少其摩擦和粘附的目的.实验还将RIE沉积法制得的薄膜与自组装(SAMs)薄膜在浸润角、表面能、表面粗糙度等方面进行了对比.

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