离子注入制备Si基稀磁半导体研究

摘要

用200Kv Mn离子注入p型Si（001）单晶，在1×1015~５×101６ Mn+/cm2注入剂量范围内 都观测到磁滞回线，表明样品有铁磁性存在。随着注入剂量的增加，饱和磁化强度有增强的趋 势，退火后磁化强度较退火前有较大幅度的减小,增加退火温度又逐渐增加。Mn原子的平均磁 矩随着注入剂量的增加逐渐减小。对于高注入剂量样品，退火后Mn原子磁矩值较退火前显著减 小,增加退火温度，磁矩值逐渐增加。对于低注入剂量样品，Mn原子磁矩值则呈现出随退火温 度增加而略有增加，而后又大幅度减小。