多弧－中频磁控溅射沉积Ti-Si-N结构与性能

摘要

设计了一套多弧结合非平衡中频磁控溅射装置，磁控靶采用内外孪生对靶，并设计成矩形靶，在单晶硅和硬质合金衬底上沉积了Ti-Si-N 纳米复合涂层，系统研究了衬底偏压和Si 靶溅射电流对涂层的影响，在偏压150V、Si 靶电流15A优化条件下，得到了Si含量为6.3at％Ti-Si-N 涂层，其结构为纳米TiN 颗粒镶嵌于非晶Si3N4 基体，涂层的显微硬度达到40GPa。