多晶硅太阳电池表面酸腐蚀织构化工艺的研究

摘要

本文介绍了利用各向同性腐蚀法制备多晶硅绒面的研究结果,主要采用酸腐蚀制绒,并利用SEM和Hitachi U-4100分光光度计分析了化学腐蚀后多晶硅片表面形貌和陷光效果。随着反应时间的增加,表面形貌是从微裂纹状到气泡状,反射率是一个先降后升的过程,其中微裂纹状织构的反射率比气泡状的低。通过优化各种参数,获得了腐蚀速度平缓,表面形貌介于微裂纹与气泡状之间,能与目前太阳电池后续工艺相适应的多晶硅绒面。