微透镜列阵成像光刻技术

摘要

文中研究了一种利用微透镜列阵为投影物镜的光刻方法。基于该方法建立了微透镜列阵成像光刻系统，并利用所建立的系统实现了800 nm线宽、50mm×50 mm面积图形的光刻制备，曝光时间仅为几十秒，所加工的图形边沿粗糙度低于100nm。该方法无需复杂昂贵的装置，系统结构简单，无需传统投影光刻系统中所需的铬掩模板。实验表明，该技术有望解决微米、亚微米特征尺寸材料及器件的低成本、高效率制备的问题。