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基于N-Si-Nb薄膜的表面传导电子发射

摘要

本文提出溅射一种三元N-Si-Nb薄膜作为表面传导电子发射的导电薄膜,通过改变溅射的工艺参数能很好地控制导电薄膜的电阻,有利于获得满足后续电形成工艺要求的导电薄膜。实验结果表明,N-Si-Nb薄膜是一种潜在的表面传导电子发射导电薄膜。

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