铜表面硅烷自组装膜的制备及其摩擦学特性

摘要

利用分子自组装技术在铜表面制备了十七氟葵基硅烷(FAS)单分子膜,用X射线光电子能谱(XPS)对组装膜的表面结构进行了表征,并利用UMT-3摩擦磨损试验机评价了薄膜的摩擦磨损性能。接触角测试表明,该组装膜具有很好的疏水性,其对水的接触角达117°。摩擦磨损实验结果表明,铜块表面沉积的FAS单分子膜可以大幅度降低铜基片的摩擦系数,使铜基片摩擦系数由无FAS膜时的0.8降到了0.23,而且低负荷下具有很好的耐磨性。