红外成像系统光学窗口电磁屏蔽技术研究

摘要

本文研究了红外成像系统光学窗口的电磁屏蔽技术。通过分析多个项目的多台单机的电磁兼容检测结果，得出现有国产红外成像系统电磁屏蔽技术难点是RS103抗电磁干扰以及RE112的电磁泄漏问题,超标的一个频点分布范围是500MNz-1.5GHz,分别研究了谐振网筛和非谐振网筛的设计方法和制作工艺,非谐振网筛相当于一个高通滤波器,随入射角增大没有呈现明显的偏振效应，具有较大的特征尺寸,设计和制作相对容易。谐振网筛相当于一个带通滤波器，可实现透过率>90％，需要消除偏振效应的影响.电磁屏蔽效率比非谐振网筛更高，特征尺寸较小,设计和制作相对复杂,采用光学窗口金属网筛屏蔽技术可以从根本上消除RS103的执电磁干扰问题以及RE102的电磁泄漏问题。