一种稳定的腐蚀液研究

摘要

本文研究了王水、FeCl3、王水(含有缓冲剂)三种腐蚀液对ITO膜的腐蚀速率、腐蚀后的表面形貌、以及对芯片电参数等影响。实验结果发现,王水的腐蚀速率最快:分别为10000,1500A/Min;FeCl3腐蚀液和王水(含有缓冲韵)腐蚀速率适中:分别为8000、70A/Min,比较适合于应用于生产。王水(含有缓冲剂)腐蚀速率可控,稳定。采用王水(含有缓冲剂)腐蚀液对ITO膜腐蚀后的芯片,具有较高的IR良率。

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