离子镀

摘要： 目的对比研究TiAlCN和TiAlN涂层的结构、塑韧性、结合力和摩擦磨损性能。方法采用多弧离子镀技术制备了TiAlCN和TiAlN涂层。利用扫描电镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)和X射线光电子能谱仪(XPS)研究了涂层的微观形貌、元素和物相组成。通过纳米压痕、纳米划痕、划痕测试仪和摩擦磨损实验研究了涂层的硬度、塑韧性、结合力和摩擦学性能。结果TiAlCN和TiAlN涂层表面均匀致密,有明显的柱状晶结构特征。TiAlN涂层的硬度(29.4±2.2)GPa大于TiAlCN涂层的硬度(22.5±1.1)GPa。TiAlCN涂层的H/E、H^(3)/E^(*2)、塑韧性和结合强度优于TiAlN涂层。大气环境摩擦时TiAlN和TiAlCN涂层的摩擦因数分别为0.80和0.38,TiAlCN涂层的摩擦因数远低于TiAlN。TiAlN和TiAlCN的磨损率分别为1.4×10^(‒5) mm^(3)/(N·m)和9.1×10^(‒6) mm^(3)/(N·m),TiAlCN涂层具有更低的磨损率。结论碳元素的掺入可以明显改善TiAlCN涂层的塑韧性和摩擦磨损性能,这主要归因于TiAlCN涂层优异的抗变形能力和无定形碳的润滑作用。

摘要： 为提高船用低速柴油机柱塞的耐磨性和柱塞偶件使用寿命,采用离子镀技术与多弧磁控耦合镀膜技术分别在柱塞上涂覆了TiN涂层和DLC涂层。利用扫描电镜(SEM)、轮廓仪和X射线衍射仪(XRD)技术表征了TiN与DLC涂层的微观形貌、表面粗糙度及物相组成,采用纳米压痕仪检测了TiN与DLC涂层的纳米硬度及弹性模量;运用划痕法和压痕法测试了TiN和DLC涂层的结合力,通过往复磨损试验考察了这2种涂层在空气中与在重柴油环境下的摩擦系数,同时结合光学显微镜定性评判TiN和DLC涂层磨损程度,通过台架试验评价了TiN涂层与DLC涂层柱塞的实际磨损情况。结果表明:这2种涂层晶体生长良好、结构连续致密,均未出现分层、开裂及剥离的现象,DLC涂层相对光滑,粗糙度R;为0.10μm,而TiN涂层R;为0.16μm;DLC涂层表面纳米硬度、弹性模量及泊松比均高于TiN涂层;无论在空气中还是重油环境下,TiN涂层摩擦系数均高于DLC涂层,耐磨性低于DLC涂层;台架试验后TiN涂层柱塞表面出现比较明显的平行状沟槽磨痕,而且整体磨损比较严重,而DLC涂层柱塞表面的磨痕非常窄并且浅,不易被发现,进一步证明DLC的耐磨损性能更优越。

摘要： 综述了近年来ZrN系列陶瓷硬质薄膜的诸多设计思路和研究方法,考察了各种研究方法的优缺点,展望了该系薄膜的研究方向;并从ZrN薄膜自身的物理化学性质开始,介绍了先进的制备方法及工艺参数对镀膜的影响;分析了以ZrN相为基础的梯度薄膜和多层薄膜,对其结构、成分、耐腐蚀性能、耐磨性能等进行讨论。指出多层、梯度陶瓷膜具有单一ZrN相薄膜无法实现的优点,多层、梯度陶瓷膜将依然是未来ZrN相系陶瓷硬质薄膜的研究方向。

摘要： 为了研究溅射清洗工艺对基片表面特性的影响机理和规律,采用霍尔离子源产生氩离子束对基片进行溅射清洗,通过调整真空度来改变离子束的放电电压,以此对比不同放电电压下离子束清洗后基片的表面特性及制备涂层的膜基结合强度.实验结果表明,随着镀膜室内真空度的提高,离子束的放电电压逐渐升高、基片接触角值逐渐减小、基片表面粗糙度先减小后增加.制备涂层的膜基结合强度随离子束放电电压的升高呈现逐渐增加的趋势,最高可达60N.采用高能氩离子束溅射清洗后能够获得润湿性、延展性和清洁度都较为理想的基片表面,能有效提高涂层的结合性能.

摘要： 采用离子镀与磁控溅射工艺在316L不锈钢上制备了Cr(Si)/ZrN/Au梯度薄膜.该薄膜呈金黄色,具有优良的结合强度、耐蚀性和耐磨性,是理想的手表用装饰性膜层.其中金层厚度小于10 nm,用金量极少.

摘要： 目的探究脉冲偏压对TiAlSiN涂层结构及力学性能、耐磨性能、抗氧化性能的影响规律及机制。方法采用阴极电弧离子镀膜技术,调控偏压参数并在M2高速钢上沉积TiAlSiN涂层,利用SEM、XRD、3D轮廓仪、金相显微镜、划痕仪、摩擦磨损试验仪等仪器及高温氧化试验,对涂层结构及性能进行分析表征。结果偏压为50 V时,涂层主要为AlN相;偏压高于75 V时,涂层以固溶的(Ti,Al)N相为主,TiAlSiN涂层存在较强的(200)面择优取向。偏压由50 V增大至150 V时,涂层的致密性增加,表面粗糙度先降低后上升,涂层结合力先增大后降低。TiAlSiN涂层的磨损方式主要是磨粒磨损,受物相结构、涂层致密性的影响,偏压为100~150 V时,涂层的耐磨性能优异。涂层1000°C氧化4 h后,表面氧化程度不同,主要受物相结构、致密性、表面孔隙的多重影响,hcp-AlN相比(Ti,Al)N相更易氧化;偏压增大使得涂层沉积更为致密,氧化层深度变浅;涂层孔隙增加,表面形成的Al2O3团簇增多。结论偏压100 V下TiAlSiN涂层的综合性能最优,涂层结合力为46.7 V,硬度为3276HV0.025,表面粗糙度最低,耐磨性能较好且高温下抗氧化性能最强。

摘要： 采用多弧离子镀技术在钛合金表面制备了TiSiCN单层涂层和TiSiCN/TiSiN多层涂层,对比研究了两种涂层的微观形貌、硬度、结合性能和摩擦磨损性能.结果表明:两种涂层的组织结构均致密均匀;与TiSiCN单层涂层相比,TiSiCN/TiSiN多层涂层的硬度更高;TiSiCN/TiSiN多层涂层与基体的结合强度小于TiSiCN单层涂层的;TiSiCN/TiSiN多层涂层在大气中和人工海水中的摩擦因数分别为0.32和0.30,TiSiCN单层涂层在大气中和人工海水中的摩擦因数和磨损率均低于TiSiCN/TiSiN多层涂层的,TiSiCN单层涂层的耐磨性能更优.

摘要： 目的探究TiAlSiN涂层经过不同热震次数后,其组织结构及性能的变化规律及机制。方法采取电弧离子镀技术在单晶硅和M2高速钢(W6Mo5Cr4V2)表面沉积TiAlSiN涂层,采用加热-水淬循环的方法进行热震试验。采用3D表面轮廓仪、扫描电子显微镜(SEM)表征涂层显微形貌,用金相显微镜测定膜/基结合力,用能谱仪(EDS)分析涂层元素含量变化,用X射线衍射仪(XRD)表征物相结构,用划痕仪和硬度计测量涂层力学性能,用摩擦磨损试验仪、光学显微镜探究涂层摩擦学性能及摩擦磨损机制。结果随着热震次数的增加,涂层表面产生的TiO颗粒尺寸增大,含量增多,粗糙度增加。XRD衍射峰向小角度发生偏移,但仍保持立方结构。涂层的力学性能变差,硬度值由2066HV0.025下降至1447HV0.025,结合力由常温的71.8 N下降至33.9 N,结合力等级由常温的HF1降至HF4。此外,30、40、50次热震后,涂层展现出比常温下更优异的耐磨性能,摩擦系数由常温的0.571分别降低至0.427、0.389、0.273,磨损率由常温时的1.4×10^-14 m^3/(N·m)分别降至1.01×10^-14、0.93×10^-14、0.71×10^-14m^3/(N·m),磨损类型主要为粘着磨损与氧化磨损。结论 TiAlSiN涂层在600°C下具备优异的抗热震性能,多次冷-热循环后仍为立方结构。随着热震次数的增加,TiAlSiN涂层表面质量及力学性能下降,但摩擦磨损试验中,由于涂层表面多次热震形成的氧化物起到润滑效果,有效减缓了涂层与摩擦球的剧烈接触,使TiAlSiN涂层的耐磨减摩性能提高。

摘要： 目的研究氮含量对Cr CN镀层结构和摩擦学性能的影响。方法采用微弧离子镀技术制备Cr CN镀层,通过改变氮气的流量来改变镀层中氮元素含量。利用扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)观察镀层的截面和表面形貌,采用划痕法对镀层与基体的结合强度进行评价,采用维氏硬度计测试镀层的显微硬度,利用针盘式摩擦磨损试验机测定镀层的摩擦系数。结果当通入的氮气流量逐渐增大时,镀层由致密细小的颗粒逐步演变为含微孔的柱状组织。当氮气流量为3 m L/min时,镀层中生成的弥散分布的硬质相具有显著的强韧化作用,镀层的膜基结合力和硬度分别达到最大值41 N和1476HV,摩擦系数略微增大。继续增大氮气流量后,镀层性能有所下降。结论通过控制氮气流量来控制镀层中氮元素的含量,可以显著优化镀层结构和性能,达到结合强度、硬度和摩擦系数的最优化配置。

摘要： 为优化TiAlN涂层的沉积参数,采用多弧离子镀技术在不同弧电流条件下于锆合金表面制备TiAlN涂层。利用扫描电子显微镜、能量色散X射线谱、高温热处理炉、划痕仪和X射线衍射仪分析弧电流对TiAlN涂层表面形貌、元素成分、高温抗氧化性、膜基结合力及物相结构的影响。结果表明:随着弧电流的升高,TiAlN涂层表面大颗粒数目逐渐增多,但涂层变得更加致密、孔隙率逐渐降低;弧电流为70 A时所制备的涂层高温抗氧化性能最好;膜基结合力随着弧电流的增加呈现出先增大后减小的趋势,弧电流为60 A时所制备的涂层膜基结合力最大,为32 N;弧电流为50 A时,涂层中物相Ti3AlN在(111)晶面、物相AlN在(100)晶面表现出择优取向。

摘要： 铝涂层是未来替代传统镉类镀层的主要防护技术之一,具有耐蚀性优异、抗接触腐蚀、无氢脆、使用温度高等诸多优点.铝基涂层的研发和应用是国内外表面处理技术的前沿,美军在2011年举行的可持续国防领域先进表面工程技术会议上,提出铝基涂层是未来替代电镀镉的重要技术之一.目前制备铝涂层的主要方法包括离子镀铝和离子液体电镀铝两种方法.离子镀铝属于物理气相沉积的一种,采用离子镀的方法在金属基体表面制备一层纯铝沉积层,后续再经过致密化处理和/或铬酸盐处理,能够进一步提高其耐蚀性.离子液体电镀铝技术是采用离子液体作为电镀溶液,通过传统电镀的方法在金属基体表面制备一层纯铝镀层,所采用的离子液体是由特殊的有机物质和卤化铝等物质组成.这种离子液体最重要的特点在于,其完全由阴阳离子构成,不含水分子,因此完全避免了可能对钢、钛合金基体产生氢脆风险.在300M超高强度钢表面制备离子镀铝和离子液体电镀铝两种涂层,采用扫描电子显微镜(SEM)、能谱(EDS)等对两种涂层的表面、断面微观形貌和成分进行表征;采用原子力显微镜(AFM)对两种涂层表面三维形貌和粗糙度进行观察和测量;采用电偶腐蚀测试两种涂层与铝合金的接触腐蚀性能;采用缺口试样拉伸方法检测了两种涂层对300M钢基体氢脆性能的影响;采用5％NaCl人工海水周浸试验的方法检测了两种涂层的耐蚀性能,与电镀镉钛镀层进行对比,采用电化学方法对涂层试验前后的阻抗谱特性进行了检测分析.结果表明:两种涂层表面形貌存在较大差异,离子镀铝经过致密化处理后,表面为均匀的圆饼状形貌,致密度很高,粗糙度约为0.88μm,而离子液体电镀铝涂层表面则为圆顶状的凸起物组成,没有明显的孔洞缺陷,粗糙度约为0.71μm;电偶腐蚀测试显示两种涂层都能够与铝合金相容连接;缺口试样的拉伸试验结果显示,两种涂层的对基体的氢脆性能没有影响;腐蚀试验结果显示,两种涂层对于300M钢基体都具有良好的保护效果,与传统的电镀镉钛相当.综上试验结果,离子镀铝和离子液体电镀铝两种技术在主要的性能指标(氢脆性、耐蚀性等)上都已经达到了电镀镉钛的水平,并且具有绿色环保的工艺特点,因此完全具备了未来替代镉类镀层的潜质.

摘要： 离子镀装饰膜生产在镀层表面局部经常出现一层浅白色似云雾状物,称为发朦或朦白.这种缺陷是镀层表面存在密集分布的小颗粒对光漫反射干扰了原表面有规律的反射光所至,实际是一种对光的视觉.讨论了各种发朦的现象和成因,探讨了改善发朦的相应对策.电弧沉积产生的熔滴，磁控溅射靶材打弧产生靶材烧熔物和爆裂碎片，熔内部件残留镀层因热涨冷缩、振动引起破裂飞溅等，都是镀层上引起发朦缺陷的颗粒群的来源。设法减少这些颗粒来源可以改善发朦缺陷。基体表面抛光不到位或过超声清洗过于猛烈导致基体粗化;离子轰击过度镀层表面破打毛;镀膜工艺不当致镀层不致密等致使表面存在细微粗糙，导致发朦。需改善工艺。朦白是离子镀装饰膜中常见的缺陷之一，其成因复杂，还需深入研究，找出相应更有效对策，全面彻底克服发朦缺陷，提高镀层质量。

摘要： 空心阴极放电(Hollow Cathode Discharge,HCD),具有低电压、大电流、离化率高、粒子能量大、设备简单、成本低和无公害等优点,近年来被广泛应用于真空冶炼,半导体,核物理,离子镀等众多领域.尤其是做为真空离子镀膜机的离化和加热源,更是被当做一种纯熟的技术在国内外大量的使用着.空心阴极镀膜设备就是利用电子束加热、蒸发、沉积金属。被沉积金属迅速融化、蒸发、离化，与反应气体的离子一起被偏压电源引至工件表面，形成膜层。因膜层完全是源子态堆积生长，没有多弧离子镀的液滴和大颗粒，所以具有膜质细腻致密、结合力强、色泽鲜艳、光洁度好、硬度高等诸多优越特性。空心阴极电子枪可以完成对工件加热和清洗的任务，又可以与多弧或溅射靶并用，起到减少大颗粒和提高离化率的作用，充分发挥了空心阴极电子枪的优异特性。

摘要： 真空离子镀膜技术是近几十年才发展起来的一种新的镀膜技术。由于真空离子镀具有许多传统电镀(也叫水镀)和其它真空镀方法所无法比拟的优点。因此，这一技术一诞生就受到人们的重视，发展迅速，应用领域也愈来愈广。本文从真空离子镀现实应用原理及离子镀代替电镀发展过程两方面，介绍了我国离子镀的发展进展及国外科技成果。

摘要： 本文对当前离子镀装饰硬膜生产中出现的色差以及黑色膜发彩问题进行初步疏理,对其成因和影响因素进行了分析、探讨和推测,从理论角度或工艺角度提出了一些见解,解决色差问题首要是提高炉内沉积条件均匀性，主要有镀膜空间等离子体要均匀，空间电场和磁场对等离子体均匀性影响，供反应气体的浓度、比例和布气的均匀性，工件受热表面温度均均性，工件运动对均匀性的补偿，避免遮挡，防止反溅率与膜生长应力影响和负偏压与等离子体鞘层的影响。

摘要： 介绍了离子镀薄膜技术的发展,传统硬质涂层如TiN、CrN、TiAlN在工具、模具等方面的应用,新型硬质涂层材料如纳米多层涂层、纳米晶复合涂层以及DLC涂层材料的发展和应用,分析了复合镀膜技术的发展状况和应用前景.离子渗氮与PVD复合表面处理技术是近年来发展起来的新型镀膜工艺，目前引起了人们的重视。一般在工具钢、模具钢表面沉积硬质膜时，由于基体的硬度仍然偏低，无法提供足够的支撑作用，在应力作用下涂层很快崩裂。因此在合金钢表面进行离子渗氮处理，获得厚度达到几百微米的渗氮层，基体表面硬度得到提高;然后在渗氮层上再进行离子镀TiN,TiA1N,TiCN,DLC等硬质涂层，可以获得很高的表面硬度和耐磨性，延长使用寿命。采用先氮化后沉积TiN涂层发现，与直接在表面沉积TiN涂层相比，复合处理后表面的硬度、膜基结合力获得了大幅度提高，同时表面粗糙度降低，复合处理高速钢钻头的使用寿命是直接沉积TiN涂层的两倍，甚至高于直接沉积的TiA1N涂层。

摘要： 阐述了离子镀装饰镀层-基体系统的局部针孔腐蚀机理属于镀层-腐蚀介质-基体组成腐蚀电池的电化学电极腐蚀反应,介绍了腐蚀行为特征和腐蚀形貌,並揭示了镀层表面缺陷是腐蚀介质通过镀层到达基体组成腐蚀电池的腐蚀通道.最后讨论了提高镀层-基体系统耐蚀性的措施.包括改进沉积粒子活性和易动性的工艺技术参数，增厚镀层，采用高耐蚀基体材料，沉积耐蚀致密过渡层，中间附加等离子刻蚀，多层结构，基体等离子氮化预处理，水法电镀过渡层等，

摘要： 本文中针对磁控溅射镀膜和离子镀两种物理气相沉积方法的不同，开展了高分子纳米核孔膜基的金膜沉积研究，分析了纳米级金粒子在纳米孔中的结晶成核过程及其形貌。结果表明，在同样的高分子纳米核孔膜中，离子镀比磁控溅射镀膜方法得到的膜层表面更为平整，后者在纳米孔内形成高度为1～2μm，大端直径为纳米孔的直径，小端为针状的晶体结构，而同样的沉积时间离子镀得到的结晶体较为圆滑，没有锥状物的出现。同时针对磁控溅射镀膜方法而言，随着镀膜沉积时间的延长，结晶体在纳米孔中的形状保持不变，但纳米孔边缘有明显的收缩趋势。

摘要： 本文中针对磁控溅射镀膜和离子镀两种物理气相沉积方法的不同，开展了高分子纳 米核孔膜基的金膜沉积研究，分析了纳米级金粒子在纳米孔中的结晶成核过程及其形貌。结 果表明，在同样的高分子纳米核孔膜中，离子镀比磁控溅射镀膜方法得到的膜层表面更为平 整，后者在纳米孔内形成高度为1～2 μm，大端直径为纳米孔的直径，小端为针状的晶体结 构，而同样的沉积时间离子镀得到的结晶体较为圆滑，没有锥状物的出现。同时针对磁控溅 射镀膜方法而言，随着镀膜沉积时间的延长，结晶体在纳米孔中的形状保持不变，但纳米孔边缘有明显的收缩趋势。

摘要： 采用离子镀技术在0Cr17Ni4CuNb钢基体上制备了CrNx膜。使用两电极电化学系统将 膜层退镀，退镀液采用氢氧化钠（NaOH）溶液，电压2～20V，其中，将含有膜层的钢基体作为阴极，镍板作为阳极，通过调整退镀电压和控制反应时间得到不同参数下的基体表面形 貌，经过扫描电镜和EDX分析，退镀后的基体表面无膜层残留且基体腐蚀损伤有限。

摘要： 在离子镀中，基片被容放在设置在真空腔内的基片座上，在真空腔内产生等离子体并形成薄膜，使用一个电源单元，通过基片座向真空腔内施加一个周期为1kHz～1GHz的偏电压，所述偏电压由一个具有预定负电压值并输出预定时间的负偏压成分和一个脉冲偏压成分组成，所述脉冲偏压成分对应于一个具有恒定正电压值并输出预定时间的脉冲输出。

摘要： 本发明涉及电弧离子镀膜技术领域，具体涉及一种离子镀旋转直线复合式引弧装置及离子镀膜装置，其中离子镀旋转直线复合式引弧装置包括驱动组件、引弧杆、引弧针，所述引弧针安装在引弧杆的一端，所述驱动组件可驱动引弧杆沿直线运动以及可驱动引弧杆旋转运动。本发明可使引弧针有效避开靶材离化的金属离子直接沉积,很大程度降低沉积于引弧针上的膜层厚度,同时也提高了引弧针的导电性，增大了放电引弧的稳定性。引弧针远离靶面，靶面前无遮挡，更有利于靶面沉积膜层。

摘要： 一种钢铁、钛合金低温脉冲离子氮碳共渗及阴极电弧离子镀M/MN交替镀厚膜工艺，属于材料表面技术领域。其特征是：工件3经冷轧或冷拔成型进行消除应力退火；制备工件表面耐磨层的硬度呈缓和过渡分布的氮碳共渗层+M/MN交替复合厚膜层，防止镀膜脱落；改性层与离子镀M膜层之间形成1～3μm厚度的过渡层，提高镀膜附着性；离子镀M与MN交替镀膜，离子镀M镀膜能部份吸收MN镀膜内应力，镀膜不易脱落；本发明的效果和益处是：解决钛合金硬度不高耐磨性不足；取代电镀硬铬，对环境旡汚染，对人体无害；应用面很广泛如模具、机床零部件、矿山机械、机车、活塞环等。

摘要： 在离子镀中,基片被容放在设置在真空腔内的基片座上,在真空腔内产生等离子体并形成薄膜,使用一个电源单元,通过基片座向真空腔内施加一个周期为1kHz～1GHz的偏电压,所述偏电压由一个具有预定负电压值并输出预定时间的负偏压成分和一个脉冲偏压成分组成,所述脉冲偏压成分对应于一个具有恒定正电压值并输出预定时间的脉冲输出。

摘要： 本发明涉及电弧离子镀膜技术领域，具体涉及一种离子镀旋转直线复合式引弧装置及离子镀膜装置，其中离子镀旋转直线复合式引弧装置包括驱动组件、引弧杆、引弧针，所述引弧针安装在引弧杆的一端，所述驱动组件可驱动引弧杆沿直线运动以及可驱动引弧杆旋转运动。本发明可使引弧针有效避开靶材离化的金属离子直接沉积,很大程度降低沉积于引弧针上的膜层厚度,同时也提高了引弧针的导电性，增大了放电引弧的稳定性。引弧针远离靶面，靶面前无遮挡，更有利于靶面沉积膜层。

摘要： 一种钢铁、钛合金低温脉冲离子氮碳共渗及阴极电弧离子镀M/MN交替镀厚膜工艺，属于材料表面技术领域。其特征是：工件3经冷轧或冷拔成型进行消除应力退火；制备工件表面耐磨层的硬度呈缓和过渡分布的氮碳共渗层+M/MN交替复合厚膜层，防止镀膜脱落；改性层与离子镀M膜层之间形成1～3μm厚度的过渡层，提高镀膜附着性；离子镀M与MN交替镀膜，离子镀M镀膜能部份吸收MN镀膜内应力，镀膜不易脱落；本发明的效果和益处是：解决钛合金硬度不高耐磨性不足；取代电镀硬铬，对环境旡汚染，对人体无害；应用面很广泛如模具、机床零部件、矿山机械、机车、活塞环等。

摘要： 本发明涉及AR技术领域，具体涉及一种利用多弧离子镀和磁控溅射镀制备超硬仿生AR片的方法，它包括以下步骤：步骤1、对基片进行清洗干燥；步骤2、采用多弧离子镀，利用弧光放电时快速蒸发硅靶形成液滴，液滴在电场作用下沉积在基片表面，形成0.5‑3微米厚的硅纳米乳突；步骤3、磁控溅射镀硅光学膜，该光学膜的厚度300纳米以内，得到超硬仿生AR片，本发明利用多弧离子镀和磁控溅射镀相结合的方式，可以实现该种结构的仿生消反效果，同时可以实现大批量生产，并且成本低廉，还可以实现3D造型。

摘要： 应用于真空电弧离子镀及磁控溅射离子镀的驱动电源，包括四只可控开关管QC1，QC2，QC3，QC4形成桥臂，每个可控开关管的漏源极之间并联一个续流高频二极管；可控开关管控制极与电源的控制电路连接以控制其导通关断；还包括高频二极管DC5，DC6，滤波电容CC1、CC2、CC3、电解电容CA,CB；电阻RC1、RC2,电感LC；RC1与DC5并联后一端与A电源连接，另一端通过LC与B电源连接；DC6阴极与CC3串联后接驱动电源的低电位，DC6阳极与高频DC5阳极连接；RC2一端与DC6阴极连接，另一端与B电源连接；CC1并联在驱动电源输入端，CC2接在DC6阳极以及驱动电源低电位两端。

摘要： 本实用新型提供了一种用于涡轮叶片电弧离子镀的转动夹具及电弧离子镀设备，属航空发动机或燃气轮机的涡轮叶片的加工技术领域。转动夹具包括叶冠夹、榫头夹、底座转盘和金属拨杆。叶冠夹用于对涡轮叶片的叶冠端进行防护，榫头夹用于对涡轮叶片的榫头端进行防护和限位。榫头夹的远离叶冠夹的一侧设有定位槽，底座转盘的靠近榫头夹的一侧设置有与定位槽配合的定位卡柱。金属拨杆的一端连接于底座转盘的远离榫头夹的一侧。该转动夹具结构简单，能够在满足电弧离子镀涡轮叶片非镀膜区域防护的基础上，解决出现的涂层不均匀和镀膜效率低的问题。包括上述转动夹具的电弧离子镀设备，能够提高涡轮叶片的镀膜效率和使用寿命。

摘要： 本实用新型涉及一种多弧离子镀用转架和多弧离子镀膜设备。所述多弧离子镀用转架包括架体，所述架体包括上转盘、下转盘、连接上转盘和下转盘中心的主轴、和绕周向设置于上转盘和下转盘之间的多个自转轴，每一自转轴上设有用于夹持工件的夹具，所述转架还包括驱动主轴转动进而带动整个架体一起转动的公转驱动组件、驱动多个自转轴分别相对于上转盘和下转盘转动的自转驱动组件、和驱动整个架体上下往复移动的直线往复驱动组件。本实用新型的多弧离子镀用转架及采用该转架的多弧离子镀膜设备不仅通过公转加自转的方式解决水平方向上的均匀性问题，还通过转架在竖向上的上下往复运动解决竖直方向上的均匀性问题，从而提高工件成膜质量。