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刘志杰; 张卫;
复旦大学电子工程系CVD研究室;
金刚石; 气相生长; 薄膜; 含氟气相体系; 低压; 相图;
机译:低压金刚石生长的稳态非平衡态的投影三相图
机译:低压下从CO / H2气体混合物中金刚石生长的相图
机译:低压金刚石生长的稳态非平衡相图
机译:低压金属化学气相沉积(MOCVD)作为前体的低压金属化学气相沉积(MOCVD)生长氧化铒和氧化钆高k介电薄膜的对比研究
机译:使用蒙特卡洛方法通过化学气相沉积法对金刚石膜生长的计算机模拟。
机译:从封面开始:通过低压/高温退火增强化学气相沉积单晶金刚石的光学特性
机译:通过低压/高温退火增强化学气相沉积单晶金刚石的光学性能
机译:使用次级自由基源生长低压金刚石
机译:化学气相沉积反应器通过微波等离子体化学气相沉积生长金刚石膜
机译:牙科用钻头或磨损相关的钻头或涂有金刚石钻头的技术,这些技术是通过气相化学生长获得的-CVD(化学气相沉积)
机译:微波等离子体辅助化学气相沉积沉积的化学气相沉积在高温下的高温等离子体生长高同质金刚石薄膜沉积
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