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刘志杰; 张卫;
复旦大学电子工程系;
C-H-Cl体系; 金刚石; 相图; 气相体系;
机译:DyCl3-KCl和DyCl3-CaCl2体系相图的热力学优化计算
机译:在低衬底温度下{100}取向CVD金刚石膜生长的原子尺度KMC模拟-第二部分C-H系统和含Cl体系中CVD金刚石膜生长的模拟
机译:利用分子动力学模拟计算FeCl2 sub>,PbCl2 sub>和ZnCl2 sub>二元体系的相图
机译:BCl_3-CH_4-H_2体系化学气相沉积的沉积相图
机译:使用蒙特卡洛方法通过化学气相沉积法对金刚石膜生长的计算机模拟。
机译:分析溶液效应的伤害。用于计算三元体系NaCl-二甲基亚砜-水和NaCl-甘油-水的相图信息的方程式。
机译:分析“溶液效应”的伤害。三元体系NaCl-二甲基亚砜-水和NaCl-甘油-水的三元体系相图信息的计算公式
机译:金刚石薄膜上碳纳米管生长的三种不同化学气相沉积(CVD)技术的比较研究。
机译:化学气相沉积反应器通过微波等离子体化学气相沉积生长金刚石膜
机译:牙科用钻头或磨损相关的钻头或涂有金刚石钻头的技术,这些技术是通过气相化学生长获得的-CVD(化学气相沉积)
机译:微波等离子体辅助化学气相沉积沉积的化学气相沉积在高温下的高温等离子体生长高同质金刚石薄膜沉积
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