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RUTHENIUM LINER AND CAP FOR BACK-END-OF-LINE APPLICATIONS

机译:Ruthenium衬垫和帽用于后端的应用程序

摘要

Electronic devices and methods of forming electronic devices using a ruthenium or doped ruthenium liner and cap layer are described. A liner with a ruthenium layer and a cobalt layer is formed on a barrier layer. A conductive fill forms a second conductive line in contact with the first conductive line.
机译:描述了使用钌或掺杂钌衬里和盖层形成电子器件的电子设备和方法。 在阻挡层上形成具有钌层和钴层的衬垫。 导电填充形成与第一导线接触的第二导电线。

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