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SEMICONDUCTOR MEMORY STRUCTURE HAVING DRAIN STRESSOR, SOURCE STRESSOR AND BURIED GATE

机译:半导体存储器结构具有漏极应力源,源应力源和埋地门

摘要

The present disclosure provides a semiconductor memory structure. The semiconductor memory structure includes a substrate, a gate structure, a drain stressor and a source stressor. The gate structure is disposed in the substrate. Each of the source stressor and the drain stressor includes a strained part disposed in the substrate.
机译:本公开提供了一种半导体存储器结构。 半导体存储器结构包括基板,栅极结构,漏极应力源和源应力源。 栅极结构设置在基板中。 每个源极应力源和漏极应力源包括设置在基板中的应变部分。

著录项

  • 公开/公告号US2022029019A1

    专利类型

  • 公开/公告日2022-01-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 NANYA TECHNOLOGY CORPORATION;

    申请/专利号US202117497687

  • 发明设计人 CHENG-HSIANG FAN;

    申请日2021-10-08

  • 分类号H01L29/78;H01L29/66;H01L21/762;H01L21/02;G11C5/06;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-24 23:32:53

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