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METROLOGY TARGET FOR ONE-DIMENSIONAL MEASUREMENT OF PERIODIC MISREGISTRATION

机译:定期重组一维测量的计量目标

摘要

A metrology target includes a first target structure set having one or more first target structures formed within at least one of a first working zone or a second working zone of a sample. The metrology target includes a second target structure set having one or more second target structures formed within at least one of the first working zone or the second working zone. The first working zone may include a center of symmetry that overlaps with a center of symmetry of the second working zone when an overlay error of one or more layers of the sample is not present. The metrology target may additionally include a third target structure set, a fourth target structure set, or a fifth target structure set.
机译:计量靶包括第一目标结构集,其具有一个或多个第一目标结构,其形成在第一工作区或样品的第二工作区中的至少一个内。 计量目标包括第二目标结构组,其具有形成在第一工作区或第二工作区中的至少一个内的一个或多个第二目标结构。 第一工作区可以包括当不存在一个或多个层的覆盖误差时与第二工作区的对称中心重叠的对称中心。 计量目标可以另外包括第三目标结构集,第四目标结构集或第五目标结构集。

著录项

  • 公开/公告号US2021381825A1

    专利类型

  • 公开/公告日2021-12-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 KLA CORPORATION;

    申请/专利号US202017098835

  • 发明设计人 YOEL FELER;MARK GHINOVKER;

    申请日2020-11-16

  • 分类号G01B11/27;G06T7;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-24 22:43:02

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