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P-type impurity diffusion composition, manufacturing method thereof, semiconductor element manufacturing method using the same, and solar cell

机译:p型杂质扩散组合物,其制造方法,使用该制造方法,半导体元件制造方法和太阳能电池

摘要

Problem to be solved: to provide a p-type impurity diffusion composition capable of uniform diffusion into a semiconductor substrate and a stable storage stability of the coating liquid.At least one resin selected from (a) polyvinyl alcohol and polyethylene oxide(b) solvent andCompounds containing group 13 elementsThe p-type impurity diffusion composition containing the pH of 4 to 6.5, and (b) the solvent contains (B-1) the organic solvent and (b-2) water having a boiling point of 1100.degree. C. or less than 210 A p-type impurity diffusion composition characterized by 10 to 50 mass% in the solvent.No selection
机译:要解决的问题:提供一种能够均匀扩散到半导体衬底中的p型杂质扩散组合物,以及涂层液体的稳定储存稳定性。至少一种选自(a)聚乙烯醇和聚环氧乙烷(b)溶剂的树脂 含有第13族的第13族元素的组成,含有4至6.5的pH的P型杂质扩散组合物,(b)溶剂含有(B-1)的有机溶剂和(B-2)水,其沸点为1100℃。 C.或少于210个p型杂质扩散组合物,其特征在于溶剂中的10至50质量%。NO选择

著录项

  • 公开/公告号JPWO2020116270A1

    专利类型

  • 公开/公告日2021-10-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 東レ株式会社;

    申请/专利号JP20190565963

  • 发明设计人 北田 剛;橘 邦彦;秋本 旭;

    申请日2019-11-27

  • 分类号H01L21/225;H01L31/18;H01L31/068;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-24 21:41:50

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