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Target for physical vapor deposition and nanocomposite coating film using it and its manufacturing method

机译:使用它的物理气相沉积和纳米复合涂膜的靶标及其制造方法

摘要

The present invention provides a target for physical vapor deposition, the target being formed of a Zr-Cu-Si based alloy in order to form a low-friction coating film, wherein the target comprises 82-90 at% of Zr, 4-14 at% of Cu, and 4-8 at% of Si.
机译:本发明提供了物理气相沉积的靶,该靶由Zr-Cu-Si基合金形成,以形成低摩擦涂膜,其中靶标包含Zr%的82-90%,4-14% 在Cu的%,4-8%以%的Si。

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