首页> 外国专利> Method for purifying monomethylhydrazine gas

Method for purifying monomethylhydrazine gas

机译:纯化单甲基肼气体的方法

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of monomethylhydrazine gas capable of removing moisture contained in marketed monomethylhydrazine with purity of 98 wt.% or more, suppressing generation of ammonia and the like by self-decomposition and providing monomethylhydrazine gas containing almost no impurity.SOLUTION: By conducting a purification treatment for contacting monomethylhydrazine gas with an absorbent mainly containing alumina and containing no synthetic zeolite, moisture or impurities such as monomethyl amine contained in the monomethylhydrazine gas is removed.SELECTED DRAWING: Figure 1
机译:要解决的问题:提供一种能够除去纯度98重量%的单甲基肼的单甲基肼气体的制造方法,纯度为98重量%。通过自分解,抑制氨等的产生,并提供几乎没有杂质的单甲基肼气体 。Solution:通过用主要含有氧化铝的吸收剂与吸收剂接触单甲基肼气体的纯化处理,除去单甲基肼气体中含有的单甲基胺如单甲基胺,如单甲基肼气体的纯化处理。选择图:图1

著录项

  • 公开/公告号JP6941424B2

    专利类型

  • 公开/公告日2021-09-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 大陽日酸株式会社;

    申请/专利号JP20160201119

  • 发明设计人 山脇 正也;村田 逸人;

    申请日2016-10-12

  • 分类号C07C241/02;C07C243/14;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2024-06-14 22:08:19

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号