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FILM STRUCTURE CONTAINING A PHOTOPOLYMER LAYER FOR HOLOGRAPHIC EXPOSURE AND A COATING LAYER OF HIGH RESISTANCE

机译:膜结构含有用于全息曝光的光聚合物层和高抗性的涂层

摘要

The invention relates to a layer construction comprising a curable protective layer C and a photopolymer layer B, to a method for producing such a layer construction, to a method for producing a hologram using such a layer construction, to a sealed holographic medium and to the use of such a layer construction for producing a hologram.
机译:本发明涉及一种层结构,其包括可固化的保护层C和光聚合物层B,以制造这种层结构的方法,以使用这种层结构的全息图的制造方法到密封的全息介质和 使用这种层构造来生产全息图。

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