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Plasma reactor with high symmetry quadruple gas injection

机译:具有高对称性气体喷射的等离子体反应器

摘要

To provide a gas supply system that improves ununiformity in a process gas distribution.SOLUTION: In a vacuum chamber 100, an annular lid plate 110 of a plasma reactor has upper and lower groups of gas distribution channels 130, 140 distributing gas along equal length paths from gas supply lines to respective gas injection passages 116, 118 of a gas injection nozzle 114 on a ceiling 104.SELECTED DRAWING: Figure 1A
机译:为了提供一种在工艺气体分配中提高不均匀性的气体供应系统。在真空室100中,等离子体反应器的环形盖板110具有上下气体分配通道130,140沿着相等长度的路径分配气体 从气体供应线到天花板104上的气体注入喷嘴114的各个气体注入通道116,118.选择图:图1A

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