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METHOD FOR AGING SIMULATION MODEL ESTABLISHMENT

机译:老化模拟模型建立的方法

摘要

A method for aging simulation model establishment includes following operations. Provide a planar p-type metal-oxide-semiconductor field-effect transistor (pMOSFET) having a source and a drain. Measure a first reliability degradation data of the pMOSFET. Select a model for the pMOSFET with modeling parameters related to hot carrier induced punch-through (HEIP). The modeling parameters comprise hot carrier injection (HCI) parameters used to fix a simulated current relation between the source and the drain. Construct the modeling parameters by aging parameters multiplied corresponding flags. Perform a simulation of the pMOSFET with the model to have a second reliability degradation data. Update the aging parameters and re-performing the simulation if the first reliability degradation data and second reliability degradation data are not matched. Collect the aging parameters when the first reliability degradation data and the second reliability degradation data are matched to establish the aging simulation model for the pMOSFET.
机译:用于老化模拟模型建立的方法包括以下操作。提供具有源极和排水的平面P型金属氧化物半导体场效应晶体管(PMOSFET)。测量PMOSFET的第一可靠性降级数据。选择PMOSFET的模型,其中包含与热载波引起的打孔(Heip)相关的建模参数。建模参数包括用于在源和漏极之间修复模拟电流关系的热载体注射(HCI)参数。通过老化参数构造建模参数乘以相应的标志。使用模型执行PMOSFET的模拟,以具有第二可靠性降级数据。如果第一可靠性降级数据和第二可靠性降级数据不匹配,请更新老化参数并重新执行模拟。当匹配第一可靠性降级数据和第二可靠性劣化数据时收集老化参数以建立PMOSFET的老化仿真模型。

著录项

  • 公开/公告号US2021286918A1

    专利类型

  • 公开/公告日2021-09-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 NANYA TECHNOLOGY CORPORATION;

    申请/专利号US202016820685

  • 发明设计人 JEI-CHENG HUANG;

    申请日2020-03-16

  • 分类号G06F30/20;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-24 21:05:03

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