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LANDING PAD APPARATUS FOR THROUGH-SILICON-VIAS

机译:用于通过硅通孔的着陆垫装置

摘要

An apparatus is provided which comprises: a plurality of interconnects to couple a silicon interposer to a substrate; and a landing pad configured in a non-circle shape, wherein the plurality of interconnects are adjacent to the landing pad at one end of the plurality of interconnects through a plurality of vias.
机译:提供了一种装置,其包括:多个互连,以将硅插入器耦合到基板; 和以非圆形形状配置的着陆垫,其中,多个互连通过多个通孔在多个互连的一端邻近着陆垫。

著录项

  • 公开/公告号US2021287975A1

    专利类型

  • 公开/公告日2021-09-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 INTEL CORPORATION;

    申请/专利号US201616349583

  • 发明设计人 DIGVIJAY A. RAORANE;

    申请日2016-12-15

  • 分类号H01L23/498;H01L23;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-24 21:04:51

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