首页> 外国专利> Systems, methods and computer program products for automatically generating wafer image-to-design coordinate mapping

Systems, methods and computer program products for automatically generating wafer image-to-design coordinate mapping

机译:用于自动生成晶片图像到设计坐标映射的系统,方法和计算机程序产品

摘要

Systems, methods and computer program products are provided for automatically generating wafer image-to-design coordinate mappings. In use, the design of the wafer is received by a computer processor. In addition, the image of the wafer produced from the design is received by the computer processor. In addition, the coordinate mapping between the design and the image is automatically generated by the computer processor.
机译:提供系统,方法和计算机程序产品,用于自动生成晶片图像到设计坐标映射。在使用中,晶片的设计由计算机处理器接收。另外,由计算机处理器接收由设计产生的晶片的图像。另外,设计和图像之间的坐标映射由计算机处理器自动生成。

著录项

  • 公开/公告号KR102252326B1

    专利类型

  • 公开/公告日2021-05-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号KR1020187037620

  • 发明设计人 바타차리야 산토시;

    申请日2017-05-31

  • 分类号G06F30;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-24 18:48:03

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号