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Wastewater treatment system containing nitrogen discharged from semiconductor facility process

机译:含有从半导体设施过程中排出的氮气的废水处理系统

摘要

In a semiconductor facility process, characterized in that nitrogen is removed from wastewater in at least one selected from a bioreactor for biological treatment, a stripping for stripping, or a gas degassing for gas degassing. It relates to a wastewater treatment system containing nitrogen discharged.
机译:在半导体设施方法中,其特征在于,在从生物处理中选自生物反应器中的至少一种中从废水中除去氮气,用于剥离,或用于气体脱气的气体脱气。它涉及一种含有氮气排出的废水处理系统。

著录项

  • 公开/公告号KR102241013B1

    专利类型

  • 公开/公告日2021-04-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号KR1020200148576

  • 发明设计人 이정섭;김승종;길대수;

    申请日2020-11-09

  • 分类号C02F9;C02F1/02;C02F1/20;C02F1/44;C02F1/58;C02F1/66;C02F3/30;C02F101/16;C02F103/34;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2024-06-14 21:28:55

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