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Measurement Technique for Refractive Index Inhomogeneity Between Plates of a Lightguide Optical Element (LOE)

机译:光导光电元件(LOE)板折射率不均匀性的测量技术(LOE)

摘要

A system and method for measuring refractive index inhomogeneity between plates of a Lightguide Optical Element (LOE) uses an innovative measuring technique based on a shearing interferometric technique conventionally used to observe interference and test the collimation of light beams. Another feature of the current implementation is an innovative method for analyzing the characteristics of the generated interferogram to characterize discrepancies between adjacent plates in an LOE.
机译:用于测量光导光电元件(LOE)板之间的折射率不均匀性的系统和方法使用基于剪切干涉技术的创新测量技术,其常规用于观察干扰并测试光束的准直。目前实现的另一个特征是用于分析所产生的干扰图的特征的创新方法,以在LOE中表征相邻板之间的差异。

著录项

  • 公开/公告号US2021116367A1

    专利类型

  • 公开/公告日2021-04-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 LUMUS LTD.;

    申请/专利号US201917044390

  • 发明设计人 JONATHAN GELBERG;YUVAL RUBIN;MICHAEL ADEL;

    申请日2019-06-20

  • 分类号G01N21/45;G01J9/02;G01M11;G01M11/02;

  • 国家 US

  • 入库时间 2024-06-14 21:27:18

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