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Methods for modeling the impurity concentration of a single crystal silicon ingot

机译:用于建模单晶硅锭的杂质浓度的方法

摘要

Methods for forming single crystal silicon ingots in which plural sample rods are grown from the melt are disclosed. A parameter related to the impurity concentration of the melt or ingot is measured. In some embodiments, the sample rods each have a diameter less than the diameter of the product ingot.
机译:公开了形成从熔体生长多晶硅锭的形成单晶硅锭的方法。测量与熔体或铸锭的杂质浓度相关的参数。在一些实施方案中,样品杆各自具有小于产品铸锭的直径的直径。

著录项

  • 公开/公告号US10954606B2

    专利类型

  • 公开/公告日2021-03-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 GLOBAL WAFERS CO. LTD.;

    申请/专利号US201816020707

  • 发明设计人 CARISSIMA MARIE HUDSON;JAEWOO RYU;

    申请日2018-06-27

  • 分类号C30B15;C30B15/20;C30B33/02;C30B29/06;C30B15/10;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-24 17:50:57

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