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MANUFACTURING METHODE FOR SILICONCARBIDE SINGLE CRYSTAL

机译:碳化硅单晶的制造方法

摘要

The present invention is a method of manufacturing a silicon carbide single crystal, wherein the composition of a melt containing silicon (Si), titanium (Ti), molybdenum (Mo) and carbon (C) satisfies the following condition 1, and 1900 of the melt The carbon solubility at ℃ to 2200 ℃ satisfies the condition 2, [Condition 1] 66at% ≤ Si ≤ 70at% 26at% ≤ Ti+Mo ≤30at% 0.8 ≤ Mo/(Ti+Mo) ≤ 0.56 [Condition 2] Carbon solubility(s) ≥ 3 at%, It provides a method for producing a silicon carbide single crystal, wherein the crystal growth rate of the single crystal is 100 μm/h or more based on the growth direction.
机译:本发明是一种制造碳化硅单晶的方法,其中含有硅(Si),钛(Ti),钼(Mo)和碳(C)的熔融组合物满足以下条件1,以及1900将碳溶解度熔化在℃至2200℃,满足条件2,[条件1] 66AT%≤Si≤70AT%26At%≤Ti+ Mo≤30AT%0.8≤Mo/(Ti + Mo)≤0.56[条件2]碳溶解度≥3at%,它提供了一种制造碳化硅单晶的方法,其中单晶的晶体生长速率为100μm/ h或更大基于生长方向。

著录项

  • 公开/公告号KR20210024890A

    专利类型

  • 公开/公告日2021-03-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 주식회사 엘지화학;

    申请/专利号KR1020190104639

  • 发明设计人 이호림;이성수;고정민;

    申请日2019-08-26

  • 分类号C30B15/02;C30B15/20;C30B29/36;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-24 17:33:54

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