首页> 外国专利> Interference filter arrangement for oblique incidence of the light from non-metallic, alternately high - and low refractive index ends layers.

Interference filter arrangement for oblique incidence of the light from non-metallic, alternately high - and low refractive index ends layers.

机译:干涉滤光片装置,用于倾斜入射来自非金属,交替地高和低折射率端层的光。

摘要

机译:

著录项

  • 公开/公告号DE1642385U

    专利类型

  • 公开/公告日1952-08-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 JENAER GLASWERK SCHOTT & GEN DE;

    申请/专利号DE1950J000264U

  • 发明设计人

    申请日1950-02-23

  • 分类号

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-24 01:13:51

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