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The process of selective control of the life of the electrons and holes in the transistors

机译:选择性控制晶体管中电子和空穴寿命的过程

摘要

954,854. Transistors. FAIRCHILD CAMERA & INSTRUMENT CORPORATION. May 4, 1960 [June 30, 1959], No. 15712/60. Heading H1K. A silicon NPN transistor body has a limited amount of gold diffused throughout the body so that the carrier lifetime in the collector region is reduced without affecting the lifetime in the base region. In one example a thin (1 Á) gold layer is provided on the collector side of an NPN silicon transistor body and heated for 30 minutes at 980‹ C. to diffuse the gold into the body; the body may then be maintained at a temperature of 300 ‹ C. for annealing treatment.
机译:954,85​​4。晶体管。童话相机和仪器公司。 1960年5月4日[1959年6月30日],编号15712/60。标题H1K。硅NPN晶体管主体具有散布在整个主体中的有限量的金,使得在不影响基极区域的寿命的情况下减小了集电极区域中的载流子寿命。在一个示例中,在NPN硅晶体管主体的集电极侧提供一层薄(1Á)的金层,并在980°C下加热30分钟,以将金扩散到主体中。然后可以将主体保持在300℃的温度下进行退火处理。

著录项

  • 公开/公告号FR1259666A

    专利类型

  • 公开/公告日1961-04-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利号FR19600828840

  • 发明设计人

    申请日1960-06-01

  • 分类号G01R31/26;H01L21;H01L21/22;H01L21/24;H01L29;H01L29/167;H01L29/36;H01L29/73;H04R23;

  • 国家 FR

  • 入库时间 2022-08-23 18:26:53

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