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机译:用于对基体涂层中的较高原子序数所选元素进行x射线荧光测量的方法和设备
公开/公告号US3417243A
专利类型
公开/公告日1968-12-17
原文格式PDF
申请/专利权人 MINNESOTA MINING AND MANUFACTURING COMPANY;
申请/专利号US19650505479
发明设计人 HILL ROBERT C.;
申请日1965-10-28
分类号G01N23/223;
国家 US
入库时间 2022-08-23 11:47:26
机译: 在基底上进行涂层中较高原子序数选择元素的X射线荧光测量的方法和装置。
机译: 基于基底的涂层中较高原子序数元素的X射线荧光计的方法和装置
机译: X射线荧光分析原子层沉积装置和X射线荧光分析原子层沉积方法