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机译：用于产生和/或影响激光辐射的透明介质
公开/公告号DE000001951784A
专利类型
公开/公告日1971-04-22
原文格式PDF
申请/专利权人 SIEMENS AG;
申请/专利号DE1951784A
发明设计人 ZEIDLER GUENTER DIPL-ING;DESERNO ULRICH DIPL-ING;
申请日1969-10-14
分类号H01S3/14;
国家 DE
入库时间 2022-08-23 09:34:58
机译： 用于将激光辐射施加到布置在工作区域中的工件的部分反射/透明区域上的装置，包括产生激光辐射的激光源和影响激光辐射的光学单元
机译： 用于产生和/或影响激光辐射的透明介质
机译： 用于激光透明的氧化硅层的激光结构化方法，用于生产太阳能电池，该方法涉及通过蚀刻介质蚀刻氧化硅层，同时暂时保护该层免受蚀刻介质的影响
