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Photosensitive compns - contg alkali-soluble vinyl polymers and ortho-quinonone diazides developable in alkaline

机译:光敏化合物-含碱溶性乙烯基聚合物和邻醌二叠氮化物,可在碱性条件下显影

摘要

Alkali-soluble vinyl polymers with phenolic hydroxyl grps. contain repeat units of formulae (I), (II), (III) where R is H, alkoxy or amino; in (I), X = CO; and in (II), X = SO2. The polymers are obtained by reacting polyvinylalcohol with an aromatic carboxylic acid (e.g. salicylic acid), a sulphonic acid (e.g. hydrobenzene sulphonic acid), or an aldehyde with phenolic hydroxyl grp. (e.g. vanillin). The claimed compns. contain a photosensitive agent chosen from o-quinone-diazide cpds. Used in mfre. of printing plates having good resistance to abrasion and handling and peeling. Compns. may be stored in darkness for extended periods without deteriorating.
机译:碱溶性乙烯基聚合物,带有酚羟基基团。包含式(I),(II),(III)的重复单元,其中R是H,烷氧基或氨基;在(I)中,X = CO;在(II)中,X = SO 2。通过使聚乙烯醇与芳族羧酸(例如水杨酸),磺酸(例如氢苯磺酸)或醛与酚羟基grp反应获得聚合物。 (例如香兰素)。声称的compns。包含选自邻醌二叠氮化物cpds的光敏剂。用于mfre。具有良好的耐磨性,处理性和剥离性的印版。 Compns。可能会在黑暗中长时间存放而不会恶化。

著录项

  • 公开/公告号DE000002130283A

    专利类型

  • 公开/公告日1971-12-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 FUJI CHEM IND CO LTD;

    申请/专利号DE2130283A

  • 发明设计人 ASANO TAKATERU;

    申请日1971-06-18

  • 分类号C08F27/12;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-23 08:35:24

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