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ELECTRON GUN STRUCTURE WITH UNIPOTENTIAL AND BIPOTENTIAL LENS

机译:具有双势透镜和双势透镜的电子枪结构

摘要

An electron gun structure having a main focusing lens including a unipotential electron lens and a bipotential electron lens, the unipotential and bipotential electron lenses serving as a single main electron lens having a larger effective aperture thereby greatly reducing aberration.
机译:具有主聚焦透镜的电子枪结构,该主聚焦透镜包括单电位电子透镜和双电位电子透镜,该单电位和双电位电子透镜用作具有较大有效孔径的单个主电子透​​镜,从而大大降低了像差。

著录项

  • 公开/公告号US3852637A

    专利类型

  • 公开/公告日1974-12-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 HITACHI LTDJA;

    申请/专利号US19720220641

  • 发明设计人 KANAI HJA;YAMAZAKI EJA;

    申请日1972-01-25

  • 分类号H01J29/56;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-23 03:35:35

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