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机译:具有低热膨胀系数的釉面陶瓷体的制备方法
公开/公告号DE1796341B2
专利类型
公开/公告日1976-05-06
原文格式PDF
申请/专利权人
申请/专利号DE19661796341
发明设计人
申请日1966-08-05
分类号C03C5/02;
国家 DE
入库时间 2022-08-23 02:11:08
机译: 釉面绝缘体,包括陶瓷体和釉下的底涂层,底涂层的热膨胀系数比陶瓷体低
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