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Optical arrangement for double-passing Ebert monochromator and for coupling double monochromator systems

机译:用于双通道Ebert单色仪和耦合双单色仪系统的光学装置

摘要

Coupling optics is located in the beam path between intermediate slits S.sub.2 and S.sub.3 of an additive dispersion, double- pass monochromator, for imaging S.sub.2 onto S.sub.3 and for re-imaging an aperture stop back on itself, the stop defined by dispersing means. The slits S.sub.2 and S. sub.3 along with entrance and exit slits S.sub.1 and S.sub.4 may have curvature defining a circle.
机译:耦合光学器件位于附加色散,双通单色仪的中间狭缝S2和S3之间的光路中,用于将S2成像到S3上并进行重新成像孔径光阑自身返回,该光阑由分散装置限定。缝隙S2和S3以及入口缝隙S1和出口缝隙S4可以具有限定圆形的曲率。

著录项

  • 公开/公告号US3936191A

    专利类型

  • 公开/公告日1976-02-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 VARIAN ASSOCIATES;

    申请/专利号US19740453826

  • 发明设计人 VERNON L. CHUPP;

    申请日1974-03-22

  • 分类号G01J3/18;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-23 01:36:22

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