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机译:高渗透率永久性薄膜的电沉积方法
公开/公告号JPS5232598A
专利类型
公开/公告日1977-03-11
原文格式PDF
申请/专利权人 MITSUBISHI ELECTRIC CORP;
申请/专利号JP19750108789
发明设计人 SUGIURA TOSHIO;SUGAWARA HIROSHI;
申请日1975-09-08
分类号G11B5/31;G11B5/127;H01F10/00;H01F41/26;
国家 JP
入库时间 2022-08-23 01:18:49
机译: 电沉积薄膜的设备和使用该设备电沉积低镍基坡莫合金薄膜的方法
机译: 用于电沉积薄膜的设备和使用相同的设备电沉积低镍基永久性薄膜的方法
机译: 高渗透率永久性薄膜的电沉积方法