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机译:具有不同折射率的浸入材料耦合光学系统的方法
公开/公告号JPS5320343A
专利类型
公开/公告日1978-02-24
原文格式PDF
申请/专利权人 JENAER GLASWERK SCHOTT & GEN;
申请/专利号JP19770092616
发明设计人 HAATOMUUTO BUIKEN;
申请日1977-08-03
分类号G02B6/24;G02B5/04;G02B6/06;G02B27/00;
国家 JP
入库时间 2022-08-22 23:10:58
机译: 用于浸没式光刻的晶片扫描仪中的折反射投影透镜,具有带有浸没透镜组的折射物镜部分,该浸没透镜组由折射率大于特定值的光学高折射率材料制成
机译: 通过浸入折射率使光学系统耦合的过程-失谐
机译: 在双折射光学系统中检测偏振耦合的方法及其在组装光学系统组件中的用途