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机译:基于碳酸钠*氢氧化钠和硫化钠的水溶液中的硫去除
公开/公告号JPS5536316A
专利类型
公开/公告日1980-03-13
原文格式PDF
申请/专利权人 HITACHI LTD;NIPPON CHEM PLANT CONSULTANT;
申请/专利号JP19780106225
发明设计人 MARUKO SABUROU;HOSOMI NOBUYUKI;NIWA ATSUSHI;MORI TOSHIKATSU;
申请日1978-09-01
分类号C01B17/16;C01D7/00;D21C11/04;
国家 JP
入库时间 2022-08-22 19:03:41
机译: 工业上生产氯化钠水溶液的方法以及将电解生产的氢氧化钠水溶液用于电解生产碳酸氢钠和制造氯化钠所使用的氯化钠水溶液。
机译: 工业上生产氯化钠水溶液的方法,以及将所获得的氯化钠水溶液用于电解生产氢氧化钠水溶液用于制造碳酸钠和制造氯化钠的用途。