首页> 外国专利> Method for the direct electrodeposition of a chromium layer on a metal substrate and a lithographic sheet comprising a metal substrate covered with such an electrodeposited chromium layer.

Method for the direct electrodeposition of a chromium layer on a metal substrate and a lithographic sheet comprising a metal substrate covered with such an electrodeposited chromium layer.

机译:在金属衬底上直接电沉积铬层的方法以及包括覆盖有这种电沉积铬层的金属衬底的光刻片。

摘要

Electrodeposition of chromium of selectively constituted crystalline character and grain texture on metal substrates, such as aluminum or steel base lithographic sheet to provide improved and directly chromium plated aluminum or steel base lithographic sheet capable of operatively functioning as a surface plate after exposure of an applied photo sensitive coating thereon.
机译:在金属基材(例如铝或钢基平版印刷片)上电沉积具有选择性构成晶体特征和晶粒织构的铬,以提供经过改进的直接镀铬的铝或钢基平版印刷片,该铝或钢基平版印刷版在曝光所施加的照片后可有效地用作表面板其上的敏感涂层。

著录项

  • 公开/公告号ES8107335A1

    专利类型

  • 公开/公告日1981-10-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 PRINTING DEVELOPMENTS INC.;

    申请/专利号ES19800490950

  • 发明设计人

    申请日1980-04-26

  • 分类号C25D3/04;

  • 国家 ES

  • 入库时间 2022-08-22 15:47:45

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