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Solutions for the 'electrodeposition of trivalent chromium and of' electrodeposition with application

机译:“三价铬的电沉积与电沉积”的解决方案及其应用

摘要

P the invention relates to the solutions to the 'electrodeposition of trivalent chromium and' electrodeposition of using such solutions. / p & & p & the figures of the acid hydrocyanic at the anode of a bath of the layer of chromium (iii) - thiocyanate, as a result of the oxidation of anions, thiocyanate, is prevented by adding a solution of an additive, which oxidizes to the anode preferably the thiocyanate. The potassium iodide is such an additive. / p & & p & applicable in particular by chromium plating an. / p
机译:本发明涉及“三价铬的电沉积和使用这种溶液的电沉积”的解决方案。 & &铬(iii)-铬的层的镀液的阳极上的酸性氢氰酸的数字,是由于阴离子氧化硫氰酸盐而产生的结果,是通过添加一种添加剂溶液来防止的,该溶液优选氧化成阳极硫氰酸盐。碘化钾就是这样的添加剂。 & &特别适用于镀铬。

著录项

  • 公开/公告号FR2441002B1

    专利类型

  • 公开/公告日1981-05-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 IBM;

    申请/专利号FR19790026314

  • 发明设计人

    申请日1979-10-16

  • 分类号C25D3/06;

  • 国家 FR

  • 入库时间 2022-08-22 15:05:33

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