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IMPURITY DOPING METHOD OF GALLIUM ARSENIDE VAPOR GROWTH CRYSTAL

机译:砷化镓气相晶体的杂质掺杂方法

摘要

PURPOSE:The inactive gas of N2, etc is discharge from upper stream than seed crystal substrate in order to produce with good reproduction property the density distribution which varies thinly and sharply in QaS vapor growth crystal.
机译:用途:N2等惰性气体从籽晶衬底的上游排出,以产生具有良好的复制性能的密度分布,该密度分布在QaS气相生长晶体中细微且急剧变化。

著录项

  • 公开/公告号JPS5816329B2

    专利类型

  • 公开/公告日1983-03-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 NIPPON ELECTRIC CO;

    申请/专利号JP19750132001

  • 发明设计人 MIZUNO OSAMU;

    申请日1975-10-31

  • 分类号H01L21/205;H01L29/864;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-22 12:01:49

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