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机译:尺寸标注解决方案
公开/公告号SU990872A1
专利类型
公开/公告日1983-01-23
原文格式PDF
申请/专利权人 GORDINA LYUBOV SSU;
申请/专利号SU19813369001
发明设计人 ORLOVA NATALIYA VSU;GORDINA LYUBOV SSU;YAKUNINA ELENA VSU;
申请日1981-09-23
分类号C23F1/02;
国家 SU
入库时间 2022-08-22 10:16:19
机译: 用于蚀刻金属层的蚀刻溶液,使用该蚀刻溶液的蚀刻方法以及使用该蚀刻溶液制造半导体产品的方法
机译: 用于蚀刻金属层的蚀刻溶液,使用该蚀刻溶液的蚀刻方法以及使用该蚀刻溶液制造半导体应用的方法
机译: 用于使用该蚀刻溶液蚀刻多孔硅蚀刻方法的蚀刻溶液以及使用该蚀刻溶液制备半导体器件的方法