首页> 外国专利> To form a photographic characteristics, particularly useful in the graphic arts and microelectronics

To form a photographic characteristics, particularly useful in the graphic arts and microelectronics

机译:形成照相特性,在图形艺术和微电子学中特别有用

摘要

P the present invention relates to the photograph. / p & & p & the process according to the invention consists in exposing, according to an image, a photosensitive material comprising a layer of photosensitive composition, a quinone diazide group, and then to treat the product is exposed by a basic developer which contains the hydroxide of methyltriethanolammonium. / p & & p & application is the obtaining of reserved by a development non-polluting and with a latitude of temperature and time of development. / p
机译:

本发明涉及照片。 & &根据本发明的方法包括根据图像曝光包含光敏组合物层,醌二叠氮化物基团的光敏材料,然后通过包含甲基三乙醇铵的氢氧化物的碱性显影剂对产品进行处理。 & &应用是通过无污染的开发以及在一定的温度和开发时间范围内获得保留。

著录项

  • 公开/公告号FR2407497B1

    专利类型

  • 公开/公告日1983-01-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 EASTMAN KODAK CY;

    申请/专利号FR19780030278

  • 发明设计人

    申请日1978-10-25

  • 分类号G03C5/30;G03C1/52;

  • 国家 FR

  • 入库时间 2022-08-22 10:02:13

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号