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Alkaline plating baths and electroplating process

机译:碱性电镀液和电镀工艺

摘要

Cyanide-free plating baths for the electrodeposition of copper alloys comprise aqueous alkaline mixtures which contain copper and either lead or tin ions and a chelating agent selected from glucoheptonic acid and its salts. Processes for electroplating using the bath and for removing the metal ions from the spent baths by pH adjustment are also disclosed.
机译:用于电沉积铜合金的无氰电镀液包括碱性水溶液,该混合物包含铜和铅或锡离子以及选自葡庚糖酸及其盐的螯合剂。还公开了使用浴液进行电镀的方法以及通过调节pH值从用过的浴液中去除金属离子的方法。

著录项

  • 公开/公告号US4389286A

    专利类型

  • 公开/公告日1983-06-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ELECTROCHEMICAL PRODUCTS INC.;

    申请/专利号US19820426067

  • 发明设计人 EWALD H. MCCOY;

    申请日1982-09-28

  • 分类号C25D3/32;C25D3/36;C25D3/58;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 09:50:09

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