首页> 外国专利> USE OF benzil-monoacetals as sensitizers TO photopolymerization OF POLYMERISATIONSDYGTIGE SYSTEMS CONTAINING unsaturated compounds

USE OF benzil-monoacetals as sensitizers TO photopolymerization OF POLYMERISATIONSDYGTIGE SYSTEMS CONTAINING unsaturated compounds

机译:苯甲酰单缩醛作为敏化剂用于含不饱和化合物的聚合体系的光聚合

摘要

机译:

著录项

  • 公开/公告号DK147052B

    专利类型

  • 公开/公告日1984-03-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 CIBA-GEIGY AG;

    申请/专利号DK19770005547

  • 发明设计人 JEAN BRUENISCHOLZ;RUDOLF KIRCHMAYR;

    申请日1977-12-13

  • 分类号C08F2/50;C07C49/84;

  • 国家 DK

  • 入库时间 2022-08-22 09:20:33

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