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Additive for zinc-copper electroplating baths - based on a buffer and nickel or cobalt ions, to obtain finely granular undercoatings

机译:锌铜电镀液的添加剂-基于缓冲液和镍或钴离子,以获得细颗粒的底涂层

摘要

Additive for Zn-Cu electroplating baths comprises a mixt. of a buffer such s boric acid, alkali metal borate, alkali metal carbonate, alkali metal phosphate and/or glycine, and Ni or Co ions. The mixt. is used in forming undercoatings onto which other metals are deposited, the Zn-Cu coating being smooth and finely granular such that it does not appear through the top coating.
机译:用于Zn-Cu电镀液的添加剂包括混合物。缓冲剂如硼酸,碱金属硼酸盐,碱金属碳酸盐,碱金属磷酸盐和/或甘氨酸以及Ni或Co离子。混音。 Zn-Cu涂层用于形成沉积其他金属的底涂层,Zn-Cu涂层是光滑且细颗粒的,因此不会通过顶部涂层出现。

著录项

  • 公开/公告号IT1068204B

    专利类型

  • 公开/公告日1985-03-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 MCGEAN CHEMICAL CO INC;

    申请/专利号IT19750048631

  • 发明设计人

    申请日1975-03-14

  • 分类号C25D;

  • 国家 IT

  • 入库时间 2022-08-22 08:11:10

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