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device for crystal plates included micrometricamente and self nomamente for symmetrical double exposure to ultraviolet rays to electrical circuits printed of varying thickness

机译:用于晶体板的装置,包括微米级和自体级,用于对称地两次暴露于不同厚度的印刷电路中的紫外线

摘要

机译:

著录项

  • 公开/公告号IT8865210D0

    专利类型

  • 公开/公告日1988-12-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 TRAVERSA NEVIO;

    申请/专利号IT19880065210

  • 发明设计人 TRAVERSA NEVIO;

    申请日1988-12-20

  • 分类号H05K;

  • 国家 IT

  • 入库时间 2022-08-22 06:37:19

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