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Method of determination of refraction index and layer thickness of thin layers

机译:薄层折射率和层厚的测定方法

摘要

The invention relates to a method for determining the refractive index and layer thickness of ultrathin layers. …??In order to determine the refractive index and/or thickness of layers having layer thicknesses  1  mu m, layers which are applied to a solid substrate are recorded by means of surface/plasmon microscopy as a function of the angle of incidence of the irradiating laser beam. …??It is possible in this way to determine layer thicknesses with a vertical resolution /= 0.1 nm in conjunction with simultaneous lateral resolution /= 5 mu m.
机译:本发明涉及一种用于确定超薄层的折射率和层厚度的方法。 …为了确定层厚度为1μm的层的折射率和/或厚度,通过表面/等离子显微镜根据入射角记录施加到固体基材上的层照射的激光束。 …用这种方法可以确定垂直分辨率> / = 0.1nm以及同时横向分辨率> / = 5μm的层厚度。

著录项

  • 公开/公告号EP0388874A2

    专利类型

  • 公开/公告日1990-09-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 BASF AKTIENGESELLSCHAFT;

    申请/专利号EP19900105199

  • 发明设计人 HICKEL WERNER DR.;KNOLL WOLFGANG DR.;

    申请日1990-03-20

  • 分类号G01B11/06;G01N21/41;

  • 国家 EP

  • 入库时间 2022-08-22 06:13:12

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