R.sub.5是
(i)## STR2 ##(ii)--C.tbd。 N(iii)-或-(iv)基团:2-恶唑啉基P m为0或1 P P R 8为H,烷基或OR。在图11中,R 11是H,烷基或R。当m = 1时,R 13是烷基或芳基,或R 8是#H5,当R 1和r”代表H时,R 1和R”代表H,烷基单或多羟基烷基,芳基或杂环,R 9是H或烷基,R 10是H,烷基和所述化合物的缩醛,#14STR6#--- OR.14,R 14是H,烷基,单或多羟基烷基,芳基或芳烷基糖的其余部分或代表## STR7 ##是0、1、2或3 R.sub.6代表氢原子或低级烷基,
P> R.sub.7代表H,烷基,卤素,羟基,巯基,烷氧基,烷硫基,酰氧基,酰硫基,酰氨基或伯,仲或叔氨基以及这些化合物的盐,这些化合物可用于化妆品和药物领域。
公开/公告号US4886907A
专利类型
公开/公告日1989-12-12
原文格式PDF
申请/专利号US19870039463
申请日1987-04-17
分类号C07C63/36;
国家 US
入库时间 2022-08-22 06:08:12