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Preparation method of selective TiSi_2 film using nitrided oxide film

机译:利用氮化膜制备选择性TiSi_2膜的方法

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著录项

  • 公开/公告号KR910005400A

    专利类型

  • 公开/公告日1991-03-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 문정환;

    申请/专利号KR19890012486

  • 发明设计人 나관구;

    申请日1989-08-31

  • 分类号H01L21/30;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-22 05:51:55

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